4ward360 | L’azienda
Ricerca, nello sviluppo, nella produzione di formulati e trattamenti nanotecnologici
4ward360 Srl è un’azienda italiana Leader in trattamenti nanotecnologici, il Fondatore è Sabrina Zuccalà, attiva nella ricerca, nello sviluppo e nella produzione di formulati nanotecnologici per la protezione e conservazione delle superfici materiche.
Nel 2008 l’azienda, dopo anni di studi in collaborazione con i più importanti Istituti Universitari ed esperti ricercatori, ha introdotto nel mercato nazionale ed Internazionale il primo formulato nanotecnologico per conferire proprietà idro e oleo repellenti alle superfici porose in generale rivoluzionando, così, tutti i tradizionali sistemi protettivi conservativi fino al momento conosciuti e impiegati.
Attraverso innumerevoli certificazioni e riconoscimenti da parte di enti e istituti accreditati la 4ward360 diventa sicuro riferimento per il trattamento di preservazione e conservazione del patrimonio storico dei Beni Culturali e Unesco.
L’esperienza maturata in questi ambiti ha costituito la base per poi operare nei più svariati settori.
Il continuo investimento nella ricerca e nello sviluppo di soluzioni e applicazioni sempre più all’avanguardia, anche in forza delle esperienze maturate in attività di laboratorio e di cantiere, ha portato allo sviluppo di sempre nuovi prodotti e tecnologie in grado di rispondere concretamente alle più diffuse criticità nell’ambito della protezione e preservazione dal degrado delle superfici materiche in qualsiasi settore.
A distanza di anni 4ward360 vanta innumerevoli brevetti studiati appositamente per offrire nuove e sempre migliori prestazioni alle superfici materiche, questo grazie anche allo stimolo continuo fornito delle specifiche richieste avanzate dalla committenza in base alle proprie esigenze.
Il lavoro di 4ward360 spazia proprio a 360° ovvero sul trattamento di qualsiasi superficie materica concentrandosi in particolare su applicazioni in ambito di specifici settori quali l’edilizia, l’industria, la nautica e l’auto motive.